负性光刻胶配套试剂 显影液 RFX-2277 显影漂洗液 RFH-2200

Developer and Rinse of negative photo resists 　　该试剂作为负胶的配套试剂主要用于中、大规模集成电路及其它半导体器件的生产，它与我公司生产的RFJ-220系列的负胶搭配使用效果更为良好。 The set of reagents is mainly used in the production of LSI,VLSI and other semiconductors. It will do better when used with the series of RFJ-220 produced by our company.

主要特征
RFX-2277 用于环化橡胶负性光刻胶RFJ-220的光刻显影，显影速度快。		RFH-2200 用于环化橡胶负性光刻胶RFJ-220的光刻显影漂洗，漂洗效果好。

物化指标		项目╲试剂 RFX-2277 RFH-2200 外观appearance 无色透明 colourless clear liquid 密度(g/cm3,25℃) density 0.738~0.748 0.878~0.884 水分(ppm) water content ≤300 不挥发物(%) Non-volatile ≤0.0020 金属离子含量 metal content Na,K,Mg,Ca,Fe等均小于1ppm 过滤时滤芯尺寸 filter size 0.2μm

使用方法(通用）		方法名称 具体操作步骤 浸渍法(Dip) 30~60sec浸泡，4000rpm×10~15sec旋转干燥 下滴法 20ml×150sec液体滴下，800rpm×15sec旋转，干燥方法同上 喷淋法(spray) 1000rpm×10~15sec旋转喷淋，干燥方法同上

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